第二百四十四章 举国之力的产物
第二百四十四章 举国之力的产物 (第2/2页)光刻机启动起来后，其实徐申学也看不到其内部的运转过程，毕竟光刻机工作对环境的要求非常高，除了极少数专属工作人员经过严密的除尘后可以进入外，普通外人是不能进去的。
别说人不能进去了，这光刻机工作的时候，对光线都有要求……所以光刻机的测试车间里，灯光都是暖黄色的。
因为其他色调的灯光，会影响到光刻机的光源波长……
制造芯片可是当代人类最为巅峰的生产技术。
如智云S303芯片，在指甲盖的芯片上，封装了足足七亿多个晶体管。
其技术难度相当于在指甲盖大小的芯片上，雕刻一座规模庞大的超级城市，而且还是住满人的超级大城市。
这种超高精度的加工，除了对设备要求极为苛刻外，还对环境要求也极为苛刻。
为了避影响测试，徐申学其实从头到尾都没有进入过机房，只是在外头隔着玻璃看一眼看而已。
而等测试开始后，为了避免外部光线进入影响测试，干脆是把玻璃窗都给遮挡了。
如今的徐申学以及其他一群人，只能是在外头的观察室里，通过实验室里的摄像头进行观察。
不过怎么说呢，芯片的生产虽然各种难，但是真正生产起来却是没有什么惊天动地的举动。
甚至连声音也没有多大，震动更是没有。
一旁的工作人员都不敢说话，害怕声音引起的震动影响测试……尽管这是他们的瞎担心。
但是，在这种关键的试验测试里，很多人都是不由自主的谨慎了许多。
里头的那台DUV干式光刻机，可是汇集了无数人的心血啊，多少人为这台光刻机的顺利诞生而呕心沥血啊！
如今到了实际测试，看一看真本事的时候了，哪能不在乎、不小心啊！
徐申学看着摄像机里的内容，整个芯片生产过程都是没有人工参与，全部都是自动化设备进行。
没有多久，一旁的王道林就带着一丝激动站起来道：“光刻已经顺利完成了，后面就是要进行接下来的几道去胶等工序，然后我们就可以看到试验结果了！”
徐申学一副镇定表情微微点头！
看王道林这些人啊，就是眼界小了，格局差了，不过是第一遍光刻工序完成而已，这都是既定程序，没啥好惊奇的。
不久后，随着多道后续工序完成后，王道林道：“现在基本工序已经完成了，接下来就可以用电子扫描镜进行观察了。”
只是光刻试验而已，自然不需要正常芯片生产流程里的诸多后续工序，只需要光刻后进行去胶清洗等环节，做到能够观察其内部结构就行了。
很快，这一片晶圆片就被切割，然后其中的一片芯片被送到了专用的电子扫描镜下进行放大观察。
王道林一边解释道：“我们测试用的芯片，是一种集团里的低制程功能芯片，采用的是六十五纳米工艺，正好用来测试我们的DUV干式光刻机！”
这一次测试，只是测试光刻机的可用性，可不考虑什么良品率之类的问题，因此只需要通过最基本的测试就过关。
很快，电子扫描镜那边也陆续给出了图像，一群研究人员对着显示器里的密密麻的芯片内部，纳米级别的晶体管电路进行检查分析。
而分析的过程里，可以看见那几个工程师脸上的笑容越来越盛。
到了最后，其中一个工程师忍不住站起来：“成功了，我们成功了，光刻精度完全达到了设计要求！”
这个时候，不等王道林说话，原本坐着的徐申学自己就站起来快步走了过去。
然后看向屏幕里的大片让人看一眼就头晕的密密麻麻的晶体管电路图。
王道林也跟上来：“终于是成功了，徐董，我们没有辜负您的期望，这DUV干式光刻机，我们总算是做出来了！”
“只要现在的基本性能达到了设计指标，哪怕后续还存在一些问题，我们也可以后续慢慢改进，逐步提升销量，良率，然后用于实际生产！”
徐申学道：“好，好的很！”
“辛苦大家了，今天晚上我做东，大家都要来，我们不醉不归！”
“然后，项目获得了成功，而我徐某人呢，除了有几个臭钱外也没其他的了，所有参与该项目研发的研发人员，这个月的绩效一律三倍发放，技术骨干另有奖金和期权奉上！”
“除了整机项目外，各子系统的研发团队也一应如此！”
“了解我的人都知道，我徐申学从不说假大空的话，这笔奖金我相信会让诸多满意的！”
徐申学给钱大方，那可是出了名的……尤其是在一些重点研发领域里给奖金那是给的超级大方。
智云微电子那边搞出来三十二纳米工艺，徐申学一次性就对研发团队发出去了超过三千万的奖金！
光刻机领域里也不例外，徐申学老早就说过，等你们搞出来DUV干式光刻机的那一天，就是你们实现财富自由的时候。
多了不敢说，但是整机项目以及各子系统里的核心技术人员，这一次的项目奖金足以让他们在深城买房安家，全款的那种！
只要东西搞出来，哪怕几个亿奖金对于徐申学而言那都不算什么。
和这个DUV干式光刻机的巨大意义比起来，这几个亿奖金算个屁！
尽管DUV干式光刻机只能用于六十五纳米工艺，但是这东西却是DUV浸润式光刻机的前置技术。
大量的子系统都是通用的，或者是改进后就能用的。
这解决的是0-1的问题，后续DUV干式光刻机到DUV浸润式光刻机，那是1-9的问题。
尽管1-9也非常困难，但是有了这个1打基础，那么后续搞起来才有目标，有头绪啊！
有了这个DUV干式光刻机后，徐申学也就能够真正畅想数年后把DUV浸入式光刻机弄出来了。
只要把DUV浸润式光刻机给弄出来，再配搭其他核心设备以及耗材，未来很多年都不用担心被制裁封锁了。
因为DUV浸润式光刻机，使用多重曝光技术，是可以做出来等效7纳米的芯片的。
甚至极端一些，都能做到等效5纳米的芯片，只不过成本会很高而已……
全面可自主的等效7纳米芯片工艺技术，这对智云，对华夏的意义极其重大。
而等效5纳米工艺的意义更大，哪怕它的生产成本比用EUV光刻机生产等效五纳米工艺的芯片高得多，甚至通常情况下都不具备商用价值！
但是，其实际意义依旧重大，因为这解决的是有无问题！
人家的EUV光刻机制造的五纳米，甚至三纳米，二纳米的芯片，尤其AI芯片那是各种好，问题是你买不到啊……
这个时候，自家如果有等效五纳米工艺的芯片，尤其是AI芯片，也能勉强顶上去，性能差一些总比没有强！